■ピュアシリカゼオライトの製造方法（登録特許第5244367号）

本特許は、CHA型ピュアシリカゼオライトを簡便かつ短時間で収率良く製造する方法に関する特許です。

ピュアシリカゼオライト膜の特長

• ■従来技術より2～10倍高いガス透過率（特に二酸化炭素）
• ■従来技術より水蒸気安定性に優れた分離膜
• ■従来技術より疎水性が強く、高い耐熱・耐酸性

• ■バイオガス、天然ガス、石炭ガス化複合発電(IGCC)等からの二酸化炭素分離
• ■有機ハイドライトからの水素精製
• ■水と酢酸の分離、水とエタノールの分離など蒸留代替　など、様々なガス分離膜や吸着剤としての用途に適用可能

例：バイオガスの精製（CO₂/CH₄分離）

除湿装置が不要となり装置が小型化し、運転コストも低減→二酸化炭素の分離回収コストが大幅低減